鈣鈦礦鍍膜機

鈣鈦礦鍍膜機主要由有機/金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控系統、配氣系統等部分組成。適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產前的試驗工作，廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域。

• 樣品位于真空室上方，蒸發源位于真空室下方，向上蒸發鍍膜，且蒸發源帶有擋板裝置。

• 設有烘烤加熱功能，可在鍍膜過程中加熱樣品，MAX烘烤加熱溫度為180℃。

• 設有斷水、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置。

鈣鈦礦鍍膜機

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